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2020~2021年中国光刻机产业链创新链竞争力分析

报告作者:许明

所属图书:中国产业竞争力报告(2021)No.10

图书作者:张其仔 郭朝先 白玫 邓洲 叶振宇 胡文龙 张航燕

出版时间:2021年12月

报告字数:15759 字

报告页数:19 页

摘要

光刻机被誉为“半导体工业皇冠上的明珠”,是集成电路制造行业的核心设备。本文对光刻机的产业发展路径展开分析,从全球产业链与创新链布局、光刻机技术沿革、阿斯麦(ASML)发展历程、中国的产业政策等多个视角进行梳理,展望中国光刻机产业的未来发展方向。现阶段,中国在光刻机领域仍然面临技术瓶颈,从国家战略层面出发,政府和企业均需要做好光刻机研发“持久战”的准备,保障光刻机产业政策的连贯性。从政策层面出发,一方面,需要推动形成良好的上下游合作关系,提高政策瞄准精度以及重视研发体系构建;另一方面,要推动产业分工,加强开放合作,加快光刻机产业链国产替代进程。

作者简介

许明: 许明,经济学博士,中国社会科学院工业经济研究所国际产业研究室副主任、副研究员,主要研究方向为产业经济。

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